MMC > MNOICメイン > ご利用案内 > 利用可能な設備の詳細 >

ご利用案内

 利用可能な設備の詳細
4. 異方性ウェットエッチング装置

【装置名】 異方性ウェットエッチング装置
【概略仕様】
ウェハ寸法:8インチウェハ、機能:恒温薬品槽へのウェハディッピングによるシリコン異方性エッチング、超純水リンス洗浄、5枚バッチ全自動搬送処理、ウェハ処理槽内搖動による均一エッチング、エッチング液:TMAH

 
MNOICメイン  ご利用案内  提供サービス  設備概要  お問合せ・アクセス

一般財団法人マイクロマシンセンター サイトマップ センターアクセス お 問 合 せ
Copyright c Micromachine Center. All rights reserved.