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 利用可能な設備の詳細
18. Si窒化膜減圧CVD装置

【装置名】 Si窒化膜減圧CVD装置
【概略仕様】
ウェハ寸法:8インチウェハ、機能:減圧CVDによるSiウェハへの窒化膜形成、25枚バッチのカセット・ツー・カセットウェハ搬送処理、縦型チューブ仕様、内部応力制御成膜可能

 
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